上海市纳米中心邀请到复旦大学教授，复旦大学微电子学系主任、复旦-Novellus互连研究中心主任张卫博士于5月5日（星期四）下午14:00到上海市纳米中心（嘉川路245号3号楼）3楼会议室做《原子层淀积技术及其在纳米集成电路中的应用》报告，详见附件。欢迎有兴趣的师生前往参加。

     张卫个人介绍：张卫教授在极大规模集成电路先进铜互连技术、原子层淀积工艺、以及纳米器件等集成电路的前沿领域取得了一系列创新性成果。比如他最早在国际上提出了掺碳的低k互连介质，提出了几种原子层淀积(ALD)纳米超薄介质新工艺。张卫教授先后主持了18项包括国家重大专项、国家自然科学基金会、教育部以及上海市等科研项目。自1995年以来发表SCI收录论文119篇，并申请发明专利60多项。曾获得上海市优秀博士后、上海市高校优秀青年教师、教育部新世纪优秀人才等荣誉称号，是“极大规模集成电路制造装备及成套工艺” 国家重大专项(02项)总体专家组专家，国家集成电路先导工艺平台副主任，上海市科学技术预见专家，中科院“百人计划”评审专家，国家科技奖励评审专家。

附件：纳米讲座通知回执.doc